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  • 化学镀镍磷的基本原理

    来源:本站 2025-10-10 点击:24

           化学镀镍磷,是一种在不外加电流的情况下,通过溶液中的还原剂将镍离子还原并沉积在基材表面的表面处理技术。其核心在于自催化氧化还原反应。以最常用的还原剂次磷酸钠为例,化学镀镍磷在催化表面提供电子,将镍离子还原为金属镍,同时次磷酸钠自身被氧化,释放出的磷会共沉积到镀层中,形成镍磷合金。

            化学镀镍磷整个过程无需外部电源,只要溶液与具有催化活性的基材(或经活化的非催化基材)接触,沉积便可均匀进行。这使得它能无视工件复杂几何形状,在表面各处形成厚度极其均匀的镀层。镀层中的磷含量(通常在3-15%之间)是决定镀层性能的关键因素,可通过调整镀液配方和工艺参数进行控制,为后续的性能应用奠定了基础。

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